Wacker Chemie hat den Ausbau der Produktion von hochreinem Chlorwasserstoff am Standort Burghausen abgeschlossen. Mit der Inbetriebnahme der neuen Anlage Mitte Juli wurde die Gesamtkapazität signifikant erhöht. Abnehmer der neu hinzugekommenen Mengen ist die Halbleiterindustrie, die hochreinen Chlorwasserstoff als Ätz- und Reinigungsmedium für die Halbleiterfertigung einsetzt. Die Investitionskosten für die neue Anlage liegen im niedrigen zweistelligen Millionen-Euro-Bereich. Mit dem Kapazitätsausbau stärkt der Chemiekonzern sein Spezialitätenportfolio für die Halbleiterindustrie.
Chlorwasserstoff (HCl) wird in der chemischen Industrie auf vielfältige Weise eingesetzt. Mit dem Reaktionsgas lassen sich aus energiearmen Rohstoffen reaktive Zwischenprodukte herstellen, die für die nachgelagerten Produktionsschritte benötigt werden. Wacker nutzt Chlorwasserstoff beispielsweise für die Herstellung von Siliconen, von hochdisperser pyrogener Kieselsäure und von Polysilicium für die Solar- und Halbleiterindustrie.
Das farblose, wasserlösliche Gas ist auch ein wichtiges Prozesshilfsmittel in der Halbleiterindustrie. Chlorwasserstoff wird zum Ätzen von Reinstsiliciumwafern und zum Reinigen von Anlagenteilen eingesetzt. Um Verunreinigungen zu vermeiden, müssen die verwendeten Medien hochrein sein. „Viele Wettbewerber sind in den letzten Jahren aus Kosten- und Qualitätsgründen aus der Produktion von Chlorwasserstoff ausgestiegen. Dies und die steigende Nachfrage nach Halbleiterbauteilen hat dazu geführt, dass hochreiner Chlorwasserstoff derzeit Mangelware ist“, sagt Vorstandsmitglied Christian Kirsten.
Das Chemieunternehmen zählt zu den ganz wenigen Herstellern in Europa, die HCl in der geforderten Qualität und in den benötigten Mengen liefern können. Für die vor kurzem abgeschlossene Erweiterungsmaßnahme samt Infrastruktur wurden am Standort Burghausen Investitionen im niedrigen zweistelligen Millionen-Euro-Bereich getätigt. „Unser Geschäft mit Electronic Chemicals entwickelt sich sehr erfreulich und hat hervorragende Wachstumsperspektiven“, betont Kirsten. „Die Digitalisierung führt nicht nur zu einer wachsenden Nachfrage nach Computerchips, sondern auch nach Prozessmedien wie hochreinem Chlorwasserstoff. Mit der Erweiterung unserer Kapazitäten können wir diesen Bedarf auch in Zukunft bedienen.“
Der Chemiekonzern nutzt zur Herstellung von Chlorwasserstoff Steinsalz aus seinem eigenen Bergwerk in Stetten. Zusammensetzung und Reinheit des dort geförderten Salzes eignen sich besonders gut für die Produktion. „Bisher lag die Messlatte für halbleitertaugliches HCl bei 99,9979 Prozent“, sagt Thomas Koini, Leiter des Geschäftsbereichs Wacker Silicones. „Unser Chlorwasserstoff hat einen Reinheitsgrad von 99,9995 Prozent und ist damit deutlich reiner als die sonst erhältlichen Qualitäten. Damit lassen sich die Reinheitsanforderungen in der Chipindustrie auch künftig erfüllen.“
Neben Chlorwasserstoff produziert der Hersteller weitere Spezialchemikalien für die Halbleiterindustrie. Zum Produktportfolio gehören beispielsweise Vorprodukte zur Beschichtung von Reinstsiliciumwafern sowie hochdisperse Kieselsäure als Abrasivum für chemisch-mechanische Poliermittel (CMP slurries). Zu den Abnehmern solcher Produkte zählen insbesondere international tätige Gaselieferanten, die Halbleiterunternehmen mit Prozesshilfsmitteln und anderen Spezialchemikalien versorgen.
